随着清洁手段的高科技化，各自新型清洁方式在工业中的应用非常广泛，例如等离子清洗，作为高科技清洗的一种，等离子清洗在去除半导体硅片表明的光致抗蚀膜、电子元器件表面的污垢及其他污垢粒子的清除等方面发挥了突出的作用。
    今天中清协就为大家介绍等离子清洗方式在对电子元器件表面的污垢及其他污垢粒子的清除方面发挥的作用。
    硬盘、液晶显示器及其他电子元器件在制造过程中经常会被油垢或污垢微粒所污染，不加以去除必然会对它的性能产生不良影响。使用等离子清洗可取得比湿法清洗更好的效果。
    如用等离子清洗不仅可以左除硬盘在溅镀工艺遗留下来的残留物，而且可使硬盘基材表面得到处理，对改变基材的润湿性，减少摩擦都有很大好处。
    中清协介绍到：用于液晶显示器的等离子体清洗的气体是氧气。氧气是活泼气体有很强的反应能力可以将液晶显示器表面的油垢以及固体污垢微粒清除干净。经过氧气等离子体清洗后有机污垢的分子最终被氧化成水和二氧化碳等小分子并随气体排出。具体清洗工艺流程为：研磨一吹气一氧气等离子清洗一消除静电。因此采用此工艺时需要增加一个除静电装置。经过这样清洗的电极端和显示器的偏光板粘接的成品率得到提高，而且电极端与电膜阎的粘附性能也大大提高。
    中清协解析：其他经过机械加工的电子元器件当表面污垢主要是油污时，采用氧气等离子清洗加以去除也特别有效。

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